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有国内外的各类技术授权积累。
实验室成员7成以上是博士,国内国外毕业的都有。
就说一个事情,胜遇已经申请了数千项通信标准专利,多数是5g方面的。
但是基本没交专利费。
是占专利名额,利用专利法申请不交费废止来做滚动性保护。
这样既可以占优先权,又可以不公开,通过一次又一次新的申请更新优先权延长专利保护期。
算是某种基操。
有意思的是,胜遇实验室的研究并不怎么花钱,除了技术储备和基础研发环境支出外,最大头的支出居然是研发人员的薪资……
听完汇报,脑子里也开完小差的方总想了想,道:“下午召开一次联合会议,需要有长光所等一些合作单位的参与。”
“我来协调。”行政主管连道。
“我会帮忙。”王院士跟着说道。
“……”
午后两点,长光所副所长张学君等人,大部分合作的科研单位代表都来到了梼杌实验室。
方年坐在居中位置。
神态轻松自如。
令人不敢忽视。
张学君也想起了两年多前的那次会面,实在没想到再见面时会是这样的光景。
方年目光扫过与会众人:“各位下午好,我是方年,初次见面,请多关照。”
“方总好。”
“方总太客气了。”
“……”
简单的寒暄过后,方年直截了当道:“恕我冒昧,为了不耽误大家更多的时间,我就开门见山了。”
“庐州前沿正在建设一条12寸晶圆测试线,为了配合这条测试线,梼杌这边将全面进军euv光刻研究,希望大家能给予必要支持。”
此话一出,众人皆愣。
包括梼杌的王院士。
“euv?”张学君挑了下眉,斟酌着说道,“方总,冒昧问一句,你好像对极紫外情有独钟?”
“理论上只有最尖端光刻需要用到极紫外光刻,duv(深紫外)借住浸入式方案理论上可以做到7nm光刻,似乎没必要全面进军euv?”
“……”
在座众人都是懂行人士,纷纷发表了各自的看法。
比如duv技术积累等等问题。
毕竟梼杌实验室名字里的‘半导体设备’五个字有85%是针对:
集成电路前道制造光刻机。
光刻机其实是个泛称,内里可细分为前道制造、后道封装、应用于tft(薄膜晶体管)的光刻、应用于中小基底先进光刻等的光刻机。
一般大众认知范围内的光刻机是集成电路前道制造光刻机……
听着大家的不同意见,方年微微一笑:“duv不是有各位在努力吗?”
“前沿不能白叫前沿这个名字,而且euv这个领域基本上属于赢家通吃,很符合前沿的目标。”
王院士立马道:“可是asml的euv实验机去年就运到了台积电使用。”
“……”
“这个领域需要很庞大的投入。”
“……”
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